Wafer XRD – 自动化晶圆质量控制 | Malvern Panalytical

概览

Wafer XRD 200 是一款用于晶圆生产和研究的全自动高速 X 射线衍射平台，必定会带给您前所未有的使用体验。

Wafer XRD 200 可在几秒钟内提供各种基本参数的关键数据，如晶体取向和电阻率、几何特征（如 V 槽和平槽）、距离测量等。精心设计，只为无缝融入您的工艺生产线。

该方法只需旋转一次晶圆即可收集所有必要的数据来完全测定取向，从而在非常短的测量时间内（几秒钟的范围内）提供高精度。

Wafer XRD 200 旨在优化您的通量和生产率。完全自动化的处理和分拣以及详细的数据传输工具，使其成为您的质量控制流程中强大而高效的元素。

Wafer XRD 200 强大的自动化功能与 MES 和 SECS/GEM 接口兼容。它可以轻松融入您的新流程或现有流程。

利用 Wafer XRD 200 的关键测量功能，以前所未有的方式了解您的材料。Wafer XRD 200 测量：

方位扫描的典型标准偏差倾斜（例如：Si 100）是 <0.003^o，最小值 <0.001^o。

Wafer XRD 200 可以快速进行各种测量，这将为您的流程增加真正的价值，无论是在研究还是生产过程中。但这并不是体现 Wafer XRD 200 多功能性和灵活性的唯一方面。

Wafer XRD 200 可轻松快速地分析数百种潜在样品，包括：

生产和加工: 在这个快节奏的行业中，自动化必不可少，而作为一种实用、强大的解决方案，Wafer XRD 200 处于领先地位，可用于管理晶圆处理、晶圆分拣、晶体取向深度测量、光学 V 槽与平槽测定、电阻率测量以及其他重要参数。切身体会更高的工作效率！

质量控制: 准确快速地了解材料是实现卓越质量控制的关键，而 Wafer XRD 200 正是理想的解决方案。它使用超快的 Omega 扫描方法，可以在一次测量中确定晶体取向，在五秒钟内为您提供结果。Wafer XRD 200 具有包括电阻率测量和几何特征测定功能在内的附加功能，为生产质量控制提供了无与伦比的效率和多功能性。

材料研究: 繁忙的不只有生产环境 – Wafer XRD 200 同样具备在研发环境中提供高通量分析的能力。Wafer XRD 200 能够表征数百种不同的材料，从 Si、SiC 和 GaAs 到石英、LiNbO3 和 BBO，具有多功能性，可以为您的材料研究和创新提供有力支持，在您塑造半导体技术未来的征程中助您一臂之力。